免费下载《徕卡leica DM3 XL工业正置显微镜产品手册》
专为电子半导体行业快速检测而设计
在微电子和半导体行业中，检验、过程控制或缺陷和故障分析的速度至关重要。检测缺陷的速度越快，您做出响应的速度也就越快。
视场宽敞 30%
DM3 XL 检验系统凭借大视场帮助您的团队更快地识别缺陷，提高您的收益率。充分利用独特的宏观物镜，视场宽敞 30%。
更多细节尽收眼底，工作更高效
看到更多细节意味着工作更高效。为快速扫描达到 6" 的大组件，DM3 XL 提供独特的宏观物镜。
利用 0.7x 放大倍率，它可以即刻采集 35.7 mm 的视场 – 比其他常规扫描物镜宽敞 30%。
适用于所有相衬观察方法的 LED
DM3 XL 针对所有相衬观察方法使用 LED 照明。LED 照明可提供恒定的色温，并在所有亮度等级下提供真彩色成像。
由于 LED 使用寿命长，耗电量低，因此还具有巨大的成本节约潜力。
不同样品 – 可变载物台插件
无论您想要检验的样品是哪种类型，尺寸如何，均有种类丰富的载物台插件供您选择。
工作舒适直观
彩色编码光圈辅助 (CCDA) 对分辨率、对比和景深的基本设置进行简化，有助于提升您的工作速度，并最大程度减少操作失误。
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徕卡DM12000M全新的光学设计,可以提供宏观模式快速初检,以及倾斜紫外光路功能(OUV, 倾斜紫外观察模式) 不单提升了分辨率还提高了检查12英寸(300毫米)硅片的产能。
最新的 LED 照明技术 一体化设计并整合在显微镜上. 低热辐射和机身内一体化技术确保了最理想的机身外空气流动状态。低能耗的节电设计大大延长了使用寿命,符合绿色环保的理念。
一键式的操控设计使用户可以轻易地完成倍率转换和相关的照明和相衬效果。
徕卡 DM8000 M 提供了全新的光学设计，如理想的 宏观检查模式 或者倾斜紫外光 (OUV, 随检UV 选择) 不但提高了分辨能力，同时也增加了观察 8’’/200 毫米直径大样品 时的产量。
