镀膜-刻蚀-断裂系统

为了使电子显微镜中的样品能够成像,它们需要有导电性。根据样品及其分析准备,可以使用一系列镀膜技术。从低真空室温镀膜到高真空低温镀膜,徕卡显微系统涵盖了全部的镀膜需求。


从低真空常温镀膜到高真空低温镀膜!



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镀膜

通过在样品上形成导电层的镀膜,用来抑制电荷,减少热损伤,并提高在SEM中定位检查所需的二次电子信号。徕卡显微系统的镀膜系列包括在FE-SEM和TEM中用于高分辨率分析的镀膜设备徕卡EM ACE600高真空镀膜机徕卡EM ACE200喷金仪/喷碳仪,成为一个快速,方便和直观的处理的完全自动化的系统


冷冻刻蚀

断裂后即可进行冷冻蚀刻,通过在真空中从断裂面表面的冰层升华,暴露原本隐藏的细胞成分来提供更多的信息。作为一个高度灵活的工具徕卡EM ACE900冷冻断裂系统为TEM,cryo SEM分析提供了冷冻断裂和冷冻蚀刻技术的最好结果。


冷冻断裂

为了揭示冷冻样本的内部结构,它可以被物理地拆开,以便暴露内部结构,然后用电子显微镜检查。徕卡EM ACE900冷冻镀膜将冷冻断裂技术提高到一个新水平,它具有先进的超薄切片机,有着电子束源灵活的阴影选项,一个旋转的低温平台和装载传输系统。在TEM中复制品的高分辨率分析,配备徕卡EM VCT500,SEM块面成像技术。配备了低温平台的徕卡EM ACE600和VCT500的连接,在低温SEM中为暴露的表面成像提供冷冻断裂的解决方案。



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玻璃化冷冻结构对环境影响极其敏感,需要对其加以保护以免形成假象。在理想条件下制备用于详细图像评估的样品: 在样品周围采取冷屏蔽措施,避免水分子在样品上冻结 在整个过程中精确控制温度 清洁的刀具 – 每次切片均使用干净的刀片,避免污染 及时、迅速的电子束镀膜,捕获详细的表面信息 在受保护的真空状态下转移到其他分析系统
为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层,之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。 配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后,可以在全自动化系统中获得可重复的结果,实现了一台EM ACE200具有喷金仪,喷碳仪,蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法,徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。
Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的,细粒度的和导电的金属和碳涂层,用于最高分辨率分析。 这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。 适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统,是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。
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工作中要做到佳,人们必须拥有健康的身体:这样可以在较长的时间内更加专注、更有动力和更高的效率。符合人体工程学设计的工作场所有利于身体健康,符合人体工程学的设计对工作结果有直接的影响,减少了患者住院时间并提高了工作效率。因此,人体工程学配件的支出被可能节省的费用和工作效率的提高所抵消。在决定购买人体工程学配件时,决策者需要的不仅仅是常识——他们更需要统计数据。来自奥地利Röthis的理疗医师John Ludescher提供了有关该主题的信息。
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