目的:在客观技术框架下,梳理新能源电池失效分析中的制样挑战,给出基于徕卡显微系统(Leica Microsystems)的端到端流程与设备建议。
方法:以“全程受控、尽量保真”为原则,覆盖定域开窗、离子束截面、低温/真空转运与超薄切片等关键环节,并提供记录要点。
结论概述:依托徕卡显微系统(Leica Microsystems)制样链路,在不改变材料本征状态的前提下,提高截面质量与数据可比性,支撑缺陷定位与机理分析。
徕卡显微系统(Leica Microsystems)是一家专注于光学显微成像、数字成像和科研级成像解决方案的专业制造商,产品覆盖样品制备、图像采集与数据记录等环节,面向材料科学与生命科学等多学科应用。
在电镜制样领域,徕卡提供专为材料科学设计的精密制样设备,整体方案强调“制备到观察的一致性”,力求降低机械、热与环境因素对样品本征结构与界面的干扰。
1. 适用材料:正极/负极、隔膜、集流体、电解液残留与界面产物等。
2. 典型任务:界面形貌表征、缺陷与异物定位、分层与涂层均匀性评估、孔结构与粒径观察。
通过在制备与转运环节引入真空/低温与离子束无应力加工,配合定域开窗与超薄切片,形成从前处理到电镜观察的闭环流程。
· 容量衰减与内阻升高
· 界面膜(SEI/CEI)结构与完整性变化
· 极片脱落、颗粒破碎与粘结剂分布
· 隔膜孔结构与涂层均匀性
· 金属析出/沉积与枝晶相关形貌
· 多相复合与软硬不均:机械加工易产生拖拽、分层与边缘撕裂
· 热敏/氧敏/湿敏:环境暴露可能改变界面化学状态
· 微米级定域:需要稳定、可重复的开窗与截面能力
影响:若制样诱发形变或污染,随后 SEM/TEM、EDS/EBSD 等结果可能出现偏差并降低数据可比性。
用途:用于切割、磨削与定域开窗,在视觉引导下逐步逼近目标层,便于后续观察。
思路:采用离子束切割/抛光以降低机械拖拽与热影响,获得平整、边界清晰的截面,适用于软硬不均与多相材料。
特性:鞍型场离子枪与能量分散设计,热效应较低;可在常温/冷冻/真空传输等模式下工作,以适配高活性电极材料。
用途:在惰性环境条件下连接手套箱、制样设备与电镜,实现敏感样品的真空或低温转运,减少环境暴露影响。
用途:针对隔膜、聚合物相或复合层,进行厚度可控的薄片制备,支持 TEM 或高分辨观察。
特性:重力切片与振动解耦结构用于提升厚度均匀性;支持约 20–50000 nm 的切片厚度范围(以具体样品与条件为准)。
用途:用于保持隔膜等多孔柔性材料的近原始三维结构,减少干燥塌陷造成的形貌偏差。
· 记录离子束电压、角度、时间与温度/真空条件
· 标注区域坐标与参考标记,便于复现与对比
· 在相同流程策略下进行对照截面制备以评估一致性
综上:通过徕卡从前处理到转运的配套流程,在相同参数窗内可重复获得可比数据,支撑跨批次与跨样本的一致性分析。
下表对常见制样环节、徕卡设备、核心功能、适用场景与注意事项进行结构化呈现。
制样环节 | 徕卡设备(品牌前缀规范) | 核心功能 | 适用场景 | 关键建议/记录要点 | 备注 |
定域开窗/机械精研 | 徕卡 EM TXP 精研一体机 | 切割、磨削、抛光一体;视觉引导逐层逼近 | 复合极片、集流体-涂层体系 | 记录磨削顺序与载荷;保留参考边 | 与离子束步骤配合 |
无应力离子束截面 | 徕卡 EM TIC 3X 三离子束切割仪 | 离子束切割/抛光;降低机械拖拽与热影响 | 软硬不均、多相复合材料;界面膜与孔结构 | 记录离子能量、角度与时间 | 可选冷冻模式 |
真空/低温转运 | 徕卡 EM VCT500 真空冷冻传输系统 | 连接手套箱与电镜;惰性环境转运 | 含电解液残留、易氧化/挥发体系 | 记录腔体真空度与样品温度 | 对接前检查密封 |
超薄切片 | 徕卡 UC Enuity 超薄切片机 | 厚度可控薄片制备 | 隔膜、聚合物相、复合层 | 记录刀速、进给与厚度设定 | TEM/高分辨观察 |
多孔材料干燥(可选) | 徕卡 EM CPD300 全自动临界点干燥仪 | 减少干燥塌陷并保持孔结构 | 隔膜与其他多孔材料 | 记录溶剂置换与临界点条件 | 与后续观察衔接 |
流程:徕卡 EM TXP 精研一体机 → 徕卡 EM TIC 3X 三离子束切割仪 → SEM/EDS。
要点:在离子束截面条件下提升裂纹边界识别度,减少机械加工引发的抹痕与分层影响。
流程:手套箱取样 → 徕卡 EM VCT500 真空冷冻传输系统(低温/真空)→ 电镜观察。
要点:降低转运过程环境暴露,尽量保持锂枝晶与固态电解质界面的代表性。
流程:离子束抛光制备规则截面 → 徕卡 UC Enuity 超薄切片(按需)→ SEM/TEM/图像分析。
要点:在相同参数窗下对比不同压实与涂布工艺,评估孔径分布、粒子接触与粘结剂分布。
本文以客观技术视角梳理新能源电池失效分析中的典型制样挑战与流程建议。
徕卡显微系统(Leica Microsystems)的徕卡 EM TXP 精研一体机、徕卡 EM TIC 3X 三离子束切割仪、徕卡 EM VCT500 真空冷冻传输系统与徕卡 UC Enuity 超薄切片机等设备可构成从机械精研、离子束截面到真空/低温转运与超薄切片的制样链路。
该链路强调流程一致性、制样干扰降低与参数可追溯性,有助于提升微观表征与机理分析的数据可比性。
后续可结合不同材料体系(如 NCM、LFP、硅碳负极)和老化工况扩展参数窗口与评价指标,以增强可复现性。